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Lift off光刻胶
    发布时间: 2017-11-21 09:51    

光刻胶——Lift off光刻胶

Lift off光刻胶
型号 光源 类型 分辨率 厚度(μm) 适用范围
KXN5735-LO g/h/i-Line 负性 4μm 2.2-5.2 负性光刻胶;倒角65-80°,使用普通正胶显影液显影。
LOL2000/3000 g/h/i-Line / NA 130nm-300nm 非感光性树脂,可以被显影液溶解,作为lift off双层胶工艺中底层胶使用。
ROL-7133 g/h/i-Line / 4um 2.8-4 负性光刻胶,倒角75~80°,使用普通正胶显影液。